サンエー技研株式会社
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製 品 情 報

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コンタクト露光装置/Hap1100ST

フィルムマスクスケーリングシステム搭載ソルダーレジスト用露光装置

ソルダーレジスト露光に適した高照度UV平行光に加え
一括露光機に画期的な「フィルムマスクスケーリングシステム」を搭載!

  • フィルムマスクスケーリングシステム搭載ソルダーレジスト用露光装置
  • フィルムマスクスケーリングシステム搭載ソルダーレジスト用露光装置

機能・特長

ソルダーレジスト工程の課題を解決
■基板のスケール変化にフィルムマスクが追従
■高照度によるハイスループット
■フィルムマスク管理が容易
■厚板・重量基板も安定した搬送

仕 様

スケーリング精度
<10um
生産性
19秒+露光時間
最大基板サイズ
W610×L510mm
光源
10kw、2灯
照度
>80mw/cm2
コリメーション半角
≦2.0°
デクリネーション角
≦1.5°
照度分布
≧90%