サンエー技研株式会社
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製 品 情 報

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直接描画露光装置/Hap8210FX2

ロールtoロール直接描画露光装置

独立2ライン方式のロールtoロールタイプ全自動直接描画露光装置

  • ロールtoロール直接描画露光装置
  • ロールtoロール直接描画露光装置

機能・特長

全体構成
■ 独立2ライン方式
・ 独立2ライン方式を採用することにより、1ユニットの露光ヘッドを効率的に使い、装置2台分の生産性を実現
搬送部
■ テンションコントロール
・ テンショナーにより露光時のテンションを最適化
■ 基材の送り機構
・ 独自の送り機構により、基材へのダメージを軽減
露光部
■ 露光ヘッド
・ DMD方式
・ 4波長 (365nm, 380nm, 395nm, 405nm) LED光源を採用
■ 可動ステージ
・ 主要部品にグラナイト(石材)を使用
・ アライメントカメラと露光ヘッドを同じ可動軸に配置
⇒ 非常に高い位置精度、露光安定性を実現
■ 基材の保持・平面補正
■ 自動キャリブレーション機能